高純度 ALD3 和 ALD6 閥旨在為半導(dǎo)體制造商提供可靠、高速的前體氣體計(jì)量，用于在沉積室中逐層構(gòu)建微芯片。高純 ALD3 和 ALD6 閥門(mén)可設(shè)置為常閉和常開(kāi)氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)，它們有多種配置可供選擇，包括兩端口直管和彎管設(shè)計(jì)；二通、三通和四通多通閥和多閥歧管；以及 1.125 英寸（限 ALD3 系列）和 1.5 英寸平臺(tái)中的二端口和三端口模塊化表面安裝閥?？捎玫臒嶂聞?dòng)器、位置傳感器、螺線管和可選的用于容納加熱器筒的主體孔都可以根據(jù)用戶的特定過(guò)程為用戶提供額外的價(jià)值。

具有高速驅(qū)動(dòng)的高循環(huán)壽命

流量系數(shù)范圍從 0.27 到 0.62，可提供自定義流量系數(shù)

使用可選的熱致動(dòng)器可完全浸入高達(dá) 392°F (200°C) 的溫度

適用于采用標(biāo)準(zhǔn) 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的高純度應(yīng)用

模塊化表面安裝、管對(duì)接焊和世偉洛克 VCR端接

電子或光學(xué)致動(dòng)器位置感應(yīng)選項(xiàng)

ALD3 和 ALD6 隔膜由鈷基高溫合金材料組成，具有強(qiáng)度和耐腐蝕性；閥體由 316L VIM-VAR 不銹鋼制成，適用于高純應(yīng)用；閥座由全氟化高純度 PFA 組成，具有廣泛的化學(xué)兼容性和抗溶脹性和抗污染性。