具備高過濾精度和高耐腐蝕性等特性的陶瓷過濾器，高水平的去除氣體管道內(nèi)的粒子，同時實現(xiàn)高選擇性。（可以滿足200℃高溫烘干、H20濃度消減到5ppb以下）

• 對于亞微米LSI工藝，須向使用點供應高純度工藝氣體。為此，超清潔管道也是一個主要問題。為了滿足這些要求，Pureron Japan開發(fā)了使用陶瓷作為過濾元件的全新過濾器，并在穩(wěn)定條件下實現(xiàn)了0.003μm的高精度過濾。蝕刻和薄膜所需的高選擇性。
• 去除諸如水和氧的雜質(zhì)對于尋求高選擇性是非常重要的。為了確保去除雜質(zhì)，高溫烘烤是必不可少的。Pureron Japan的陶瓷過濾器就是從這個角度開發(fā)的，可以在200°C下進行高溫烘烤。通過免維護操作降低成本。
• 三層過濾結(jié)構(gòu)，取決于顆粒直徑的大小，很少產(chǎn)生堵塞。與傳統(tǒng)過濾器相比，陶瓷過濾器還具有良好的耐久性和耐熱性。因此，生產(chǎn)停工造成的損失很小，實現(xiàn)了長期成本降低。

過濾烘烤：200°C，2小時

金屬帽

對于PGF-8型大流量，請聯(lián)系我們。

去除率：0.003μm

建議流速：10 ? 200L/min.

20℃時的設計壓力：17MPa（2465PSIG）

正常工作壓力：小于1MPa（145PSIG）

20℃時允許壓差：max.9.6MPa（1392PSIG）

連續(xù)使用溫度：max.120℃

烘烤溫度：200℃

外部泄漏量：2×10−11Pa?立方米/秒（He）以下 （或更少）

結(jié)構(gòu)要素

外殼：SUS316L內(nèi)面粗度

粗糙度：Rmax0.7μm以下 （或更少）

元件：氧化鋁陶瓷、Al2O3

密封：PTFE

接頭：1/4”、3/8”、1/2”、3/4”墊片密封、壓縮密封等